반도체에 대해 알아보기 6 - 포토공정 기업

블랭크 마스크 관련 기업

블랭크 마스크란 전처리가 된 웨이퍼에 패턴을 찍는 포토 마스크(포토마스크)가 패턴이 없는 형태로 이해하면 됩니다. 사진에 비유하면, 촬영 전 필름이 블랭크마스크, 촬영 후 필름이 포토 마스크 입니다.

 

추가로, 블랭크마스크 시장은 점유율 8 ~ 90%이상을 차지하는 일본 기업이 장악하고 있기에, 세계시장에 진입하기 어려운 상황입니다.

 

SKC

 

 

에스앤에스텍

- 2001년 블랭크마스크 개발에 성공하여 국내 시장 최초 진출

- 삼성전자와 SK하이닉스를 비롯해 중국 SMIC, 대만 TSMC, 미국 포트로닉스 등 국내·외 기업을 고객사 확보

- 20년 기준 매출 중 수출 비중은 지난해 말 기준 30%다.

- 최근 3년 사이 일본 경제 제제에 따른 국산화 기업 중에 주목을 받았음

- 삼성전자와 SK 하이닉스의 EUV 장비 도입으로 EUV용 블랭크마스크와 EUV용 펠리클 개발중

 

에스앤에스텍, 차세대 EUV용 블랭크마스크 양산 앞두고 '결함' 개선에 총력 - 전자부품 전문 미디

 

 

감광액(PR) 관련기업

동진쎄미켐

- 반도체 및 디스플레이용 재료, 대체에너지용 재료와 발포제를 판매함

- 포토공정에 사용되는 감광액(PR) 및 감광액 도포 전 뿌려서 감광액 사용량을 줄여주는 신너(Thinner)라는 제품을 생산함 (매출액의 약 50%). 참고로, 감광액은 세계 4번째로 개발함

- 19년 일본 무역 분쟁에서 수출 규제 품목중 감광액이 포함되자, 소부장 국산화의 대표 기업으로 주목받음

 

SK증권 “동진쎄미켐, 소부장 국산화 핵심 기업...삼성전자 공급으로 장기 모멘텀까지”

 

- EUV 공정용 포토레지스트 개발에 성공하면서 경쟁력을 높였음

 

동진쎄미켐, EUV 포토레지스트 국산화

 

- 추가로, 폭스바겐이 최대 주주로 있는 배터리 업체인 노스볼트에 2차전지 핵심소재인 음극재 공급에

전기차 소재사업도 순항중으로 알려져 있음

동진쎄미켐, 2차전지 소재 날개 달고 '훨훨'

 

이엔에프테크놀로지

- 전자재료중 화학 재료를 판매하는 기업으로 특히, 감광액(PR)의 핵심원료(모노머류, 폴리머류 PAG)를 생산

- 위의 기업들과 마찬가지로 일본 수출 규제에 따른 소부장 국산화에 주목을 받음

- 추가로, 반도체용 불산 제조 설비에 투자하면서 처음으로 불산 생산하여 고객사에 공급함

 

장비 관련기업

피에스케이

- 포토공정 중 감광액을 세정하는 장비인 PR Strip을 생산하는 업체로, 세계 점유율 1위의 장비업체

피에스케이, 반도체 드라이스트립 세계 시장 점유율 1위

- 기존 장비의 노하우를 살려 식각 장비 중 하나인 '베벨 에처' 개발에 완료하며 해당 장비의 국산화를 처음 이루어 냈다.

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기타 포토공정 관련기업

에스에프티

- 반도체 공정 중 포토마스크의 보호막 역할을 하는 펠리클(Pellicle)과 식각공정에서 사용되는 칠러(Chiller)를 주력으로 생산하는 업체

- 특히, 펠리클(Pellicle)은 국내 시장의 80%를 점유하고 있음

- EUV 공정을 위한 펠리클 개발은 현재 진행되고 있으며, 개발 완료에는 시간이 필요한 것으로 보임